>
 

Нанесение паяльной маски и фоторезиста

Ламинатор защитных плёнок Technilith 25/32 APF компании Intelicoat Technologies

Установки предназначены для ламинирования защитной пленки (APF-L и APF-LV) на фотошаблоны.

 

Защитная плёнка, нанесённая на фотошаблон защищает фоточувствительный эмульсионный слой от царапин и воздействия химических продуктов защитных масок и резистов и не мешает свободному прохождению УФ излучения.

Полуавтоматическая установка сеткографической печати ATMA модели AT-80Полуавтоматическая установка сеткографического нанесения жидких фоторезистов и паяльной маски на печатные платы ATMA AT-80/120/160 P/B и для применения в других высокоточных отраслях промышленности.


Преимущества ATMA AT-80/120/160 P/B:

- Электромеханический подъемник рамы обеспечивает высокую производительность и не допускает погрешностей в работе.

Ручные установки сеткографической печати ATMA, модели настольного типа MB-46Ручные настольные установки сеткографической печати ATMA MB-46 и напольного типа МЕ-78 предназначены для нанесения жидких травильных резистов или паяльных масок в прототипном и мелкосерийном производстве печатных плат.

 

Полуавтоматическая установка сеткографической печати ATMA модель AT-60 PDПолуавтоматическая установка сеткографической печати ATMA AT-60 PD на жёстких и гибких материалах для использования в высокоточных отраслях промышленности.

 

Преимущества ATMA AT-60 PD:

- Электромеханический подъемник рамы обеспечивает высокую производительность и не допускает погрешностей в работе.

- Сенсорный экран.

- Быстрая и удобная настройка параметров работы на сенсорном дисплее для достижения оптимального результата печати.

Установка нанесения защитных полимерных покрытий методом «мокрой занавеси» MASS модель LGW 220Установка MASS LGW 220 предназначена для нанесения жидких полимерных материалов методом «мокрой занавеси».

 

Преимущества MASS LGW 220:

ГЛАВНАЯ   НОВОСТИ   КОНТАКТЫ   ВАКАНСИИ   АКЦИИ  СТАРТ  

 

(812) 380-95-97

zapros@absolutelectronics.ru

Skype: info.absolutelectronics 

Яндекс.Метрика